超高真空与高真空闸阀区别

超高真空和高真空闸阀是两种用于控制真空度的设备，它们的主要区别在于工作压力范围和泄漏率。

高真空闸阀工作环境可以是常压或低于常压的环境。其泄漏率相对较低，可以在高真空环境下提供可靠的密封性能，通常用于实验室、光学镀膜、半导体加工等领域。

超高真空闸阀则可以控制更高的真空度范围，更适用于需要超高真空环境下的应用。超高真空闸阀需要在超高真空系统中工作，通常使用在电子束焊接、分析仪器、核聚变研究等领域。超高真空闸阀的泄漏率也相对较低，以保证系统的高真空密封性能。

另外，超高真空闸阀的制造和使用也要比高真空闸阀更加复杂和严格，因为在超高真空环境下，即使微小的泄漏也可能会对系统造成影响。超高真空闸阀通常采用特殊的材料和制造工艺，以确保其在超高真空环境下的稳定性和可靠性。

高真空闸阀

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