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前述两种解决方案均采用CF法兰,可应用于超高真空系统中。然而在半导体制造及相关设备领域,高真空环境已经能够满足使用需求。例如,光刻机、薄膜沉积设备和刻蚀设备的内部环境均为高真空。这种情况下,采用KF、ISO以及其他定制的O圈密封法兰更具经济效益。
KF法兰是一种小尺寸的快卸法兰,适用于真空度可达10-8 mbar的系统,密封材料通常包括Viton、Buna、Silicone、EPDM和铝合金等,主体材质通常为不锈钢。KF法兰结构包括法兰、卡箍、O圈密封圈和中心定位环,利用卡箍将这些组件固定,如下图所示。
KF法兰连接方式
(1:CF/KF转接法兰;2:卡箍;3:中心定位环;4:O形密封圈;5:KF转接法兰)
KF法兰的优点在于结构简单、使用方便,易于安装和拆卸。但KF法兰的适用管道口径较小,*大直径为50mm,如果需要更大口径的法兰,可以选择ISO法兰。
ISO法兰的常用直径为63mm和100mm,*大直径可达630mm,常见形式包括ISO-K和ISO-F。ISO法兰的真空度、密封材质及主体材质均与KF法兰相同,但相关组件略有不同。
ISO-K法兰结构包括法兰、密封圈和中心定位环,使用卡钳进行固定,如下图所示。
ISO-F法兰结构包括法兰、密封圈和中心定位环,采用螺栓进行固定,如下图所示。
ISO法兰也可提供铝制法兰,以减轻法兰重量。该类型法兰采用Viton密封,主体材质为铝合金6061-T6,可与其他ISO法兰和组件兼容。但相比不锈钢产品,其颈部焊接线更厚。
无论是KF法兰还是ISO法兰,我们均可提供完整的产品系统,并可根据您的需求定制O圈密封法兰。
三同轴浮动屏蔽真空馈通定制O圈密封法兰
如果您对上述O圈密封真空法兰感兴趣,欢迎随时与我们联系15301310116(微信同号)。